Photo lithography(포토리소그래피) 공정의 순서 위의 그림은 포토리소그래피 (photo lithography) 공정의 순서를 나타낸 것이다 . 1. 세정 (Cleaning) 가장 우선으로 기판을 세정해야한다 . 기판 위에 이물질이 있으면 박막이 만들어질 때에 여러 가지 문제가 생긴다 . 2. 증착 (Deposition) 세정 후 그 위에 재료를 증착시킨다 . 재료에 따라 증착하는 방법이 다양하다 . 금속재료의 경우 주로 스퍼터링 (Sputtering) 기법을 하고 , 반도체나 절연막의 경우는 플라즈마화학증착 (PECVD) 기법을 주로 이용한다 . 3. 세정 (Cleaning) 증착시킨 재료 위를 다시 깨끗하게 세정한다 . 4. PR 도표 (PR Coating) 그 위에 포토레지스트 (Photo Resist) 를 코팅을 한다 . 빛에 반응하는 감광성 고분자 물질인 이것을 사용하면 빛이 받는 부분과 안 받는 부분의 특성 차이를 이용해 부분적으로 모양을 만들어 줄 수가 있다 . 5. 노광 (Exposure) 포토레지스트에 빛을 가할 때에 원하는 모양으로 빛을 가하려면 빛을 모양에 따라 통과하지 못하게 막아주는 마스크가 필요하다 . 그 마스크를 통해 빛을 부분별로 쪼여주는 것이 노광이다 . 여기서 양각 포토레지스트와 음각 포토레지스트로 구분되는데 양각 포토레지스트는 빛을 쬐인 부분이 약해지는 것이고 , 음각 포토레지스트는 빛을 쬐인 부분이 단단해지는 것을 말한다 . 6. 현상 (Develop) 자외선을 쬔 기판은 이제 특수 용액을 통해 현상 과정을 거칩니다 . 이 과정에서 양각 포토레지스트의 빛 쬐인 부분이 , 음각 포토레지스트의 빛 안 쬐인 부분이 이 과정에서 녹아내린다 . 이를 통해 회로 패턴을 ...
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